1um Porous Titàn Filter Katouch pou Semiconductor Mouye Processing
video
1um Porous Titàn Filter Katouch pou Semiconductor Mouye Processing

1um Porous Titàn Filter Katouch pou Semiconductor Mouye Processing

Evalyasyon filtraj presizyon

Rezistans korozyon nan ranje pH ekstrèm

Segondè estabilite tèmik pou sik cho DIW ak SIP

Pa gen patikil koule

Ekselan rejenerabilite backwashing

Voye rechèch
Pwodwi Entwodiksyon

1um pore Titàn filtre katouch pou semi-conducteurs mouye pwosesis delivre absoli -retansyon patikil rated nan anviwònman chimik agresif kote manbràn polymère anfle oswa degrade. Fabrike soti nan pi gwo pase oswa egal a 99.4% endistriyèl segondè -pite Titàn poud atravè frèt izostatik peze ak segondè -tanperati vakyòm SINTERING, sa a poud metal Sinterized filtre reyalize inifòm estrikti mikropore ak porosite sòti 30-40% ak distribisyon gwosè pò etwat. Nan filtraj dekarbonizasyon pwodiksyon pharmaceutique API, filtè baton 1μm sintered Titàn an kaptire résidus kabòn aktive amann ak amann katalis ki soti nan likè manman viskozite segondè -, ak kapasite backwash ki kapab itilize ankò ki pwolonje lavi sèvis plizyè fwa pi lwen pase altènatif manbràn. Pwosesis mouye -fabwikasyon semi-conducteurs entegre 1um Titàn poud sinter filtè nan liy livrezon chimik pou SC-1, SC{-2, 49% HF, ak HNO₃ kouran, kote substra Titàn a reziste pitting soti nan anviwònman ki rich klori ki korode asye pur. Evalyasyon presizyon 1um retire patikil ki gen Silisyòm submicron ak kontaminan metalik san yo pa koule patikil, kenbe pite filtraj ki nesesè pou pwosesis wafer nanomèt-echèl.

1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 2           1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 3

Segondè -aplikasyon pou tretman dlo pite bouk deplwaye 1um pore Titàn filtre katouch pou semi-conducteurs pwosesis mouye kòm filtraj sekirite final devan ultrafiltrasyon ak sistèm EDI, kote poud Titàn eleman sintered kenbe tèt ak peryodik esterilizasyon ozòn ak vapè -nan{{3}sik kote jiska 280 degre nan kondisyon wet. Kontrèman ak filtè pwofondè polypropylène oswa katouch manbràn PTFE ki adousi oswa delaminasyon anba sikilasyon tèmik, vakyòm -sintered matris Titàn kenbe entegrite dimansyon nan tout ranje pH 1-14 epi li kenbe tèt ak presyon diferans jiska 5.0 bar san yo pa efondreman estrikti pò yo. CMP sispansyon polisaj pasan nan fabs avanse sèvi ak 1μm Titàn filtre katouch pòs - résine etap adsorption nan pèlen agglomerated abrazif patikil oversize pandan y ap konsève Enjenieri distribisyon gwosè patikil nan silice koloidal oswa lisier ceria. Karakteristik ki pa -patikil koule ak rejenerabilite sou entènèt atravè backflushing oswa netwayaj ultrasons pèmèt repete reutilize, diminye frekans ranplasman filtre ak depans fonksyònman nan operasyon kontinyèl semi-conducteurs mouye ban.

 

Espesifikasyon pwodwi yo

Materyèl

GR1 Titanium poud

Filtrasyon klas / gwosè pò

1um

Dyamèt

80mm

Longè

500mm

Koneksyon

M30

Teknik

Sintering

 

 

Pwodwi Karakteristik

 

1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 6

Evalyasyon filtraj presizyon - 1um pore Titàn filtre katouch la delivre absoli -retansyon patikil nominal nan liy pwosesis semi-conducteurs mouye, retire rezidi silisyòm submicron, kontaminan metalik, ak jèl- tankou patikil ki soti nan chimi agresif ki gen ladan HF, HNO₃, SC-1, ak SC-2 san zouti.

Rezistans korozyon nan ranje pH ekstrèm - Manifaktire soti nan pi gwo pase oswa egal a 99.4% segondè -poud Titàn pite atravè vakyòm SINTERING, sa a katouch filtre Titàn Sintered kenbe tèt ak anviwònman pH 1-14, reziste pitting ak atak klori ki rapidman degrade filtè Nerjaveèi asye oswa Hastelloy distribisyon filtè chimik nan sistèm Hastelloy.

Segondè estabilite tèmik pou sik DIW ak SIP cho - Filtè poud Titàn SINTER la andire operasyon kontinyèl nan 280 degre nan kondisyon mouye, sipòte esterilizasyon vapè -in-plas (SIP) ak dlo cho deyonize rense san yo pa ralantisman, delaminating, oswa lesivaj ekstrè manbràn komen nan katouch polypropylène PT.

 

 

 

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0.5μm lakòz domaj aparèy fatal.

Ekselan rejenerabilite backwashing - 1um poreux Titàn filtre katouch la sipòte backflushing sou entènèt, netwayaj ultrasons, ak rejenerasyon asid, retire solid kaptire ak restore pousantaj koule inisyal sou plizyè douzèn sik reutilizasyon, siyifikativman diminye frekans ranplasman katouch ak depans fonksyònman nan gwo -fabs volim.

Segondè tolerans presyon diferans - Vacuum-sintered Titàn matris kenbe entegrite estrikti pò anba presyon diferans jiska 5.0 bar, depase filtè manbràn ki tonbe oswa kraze pandan gwo koule oswa evènman obstrue nan semi-conducteurs ekipman pwosesis mouye.

1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 4

 

Pwodwi Aplikasyon

 

Gwo -pite liy distribisyon chimik nan wafer fabs - Enstale nan pwen-de-itilize (POU) boîtier filtre pou 49% HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄, ak kouran HCl, 1um sinter Titàn filtè katouch la anvan nou retire katouch filtè silikòn ak patikil metalik. processeur wafer sèl-.

 

Bouk resikilasyon dlo ozonize deyonize (DIO₃) – Aplike kòm filtraj sekirite nan apre -CMP netwayaj ak zouti pou retire fotorezistans. Katouch Titàn 1um pore a reziste konsantrasyon ozòn jiska 20 ppm ak ekspoze UV ​​kontinyèl, kote polypropylène filtè frajil ak manbràn PTFE pèdi entegrite mekanik.

 

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) pandan y ap konsève distribisyon gwosè patikil natif natal ak potansyèl zeta, kenbe yon pousantaj retire ki konsistan ak nan -wafer non-inifòmite (WIWNU).

 

Filtrasyon dlo post-bwòs Bwòs CMP - Enstale nan liy dlo deyonize yo manje bwòs PVA pou repran patikil rezidyèl abrazif ak iyon kwiv apre polisaj wafer. Evalyasyon absoli 1um la anpeche microscratches sou sifas kwiv ak ba -k dielectric pandan kontak bwòs.

 

Dlo ultrapure (UPW) filtè final sekirite polisaj – Pozisyone devan pwen{0}}de-itilize tiyo (POU) nan estasyon mouye etch ak rense. Titàn poud filtre katouch la opere nan UPW cho (80 degre) ak sik esterilizasyon vapè peryodik san koule patikil, kenbe kontwòl bakteri ak konte patikil ki anba a kondisyon klas 1.

 

Beny nikèl ak kobalt plating electroless pou kouch baryè/semenn - Entegre nan patikil pou pirifye beny plating pou retire kontaminasyon patikil ki soti nan estabilize ak ajan konplèks. Matris Titàn ki reziste -kowozyon nan lavni an opere nan tanperati ki wo (70-90 degre) ak pH alkalin san frajilman idwojèn oswa kontaminasyon benyen.

 

Kontakte nou

tel.png

Tel: 0917-3873009

phone.png

Telefòn: +86 18992731201

fax.png

Faks: 0917-3873009

address.png

Adrès: Non. 195, Gaoxin Avenue, High-Zòn Devlopman Teknoloji, Baoji City, Shaanxi, Lachin

address.png

Whatsapp: +86 18992731201

Baj popilè: 1um poreux Titàn filtre katouch pou semi-conducteurs mouye otomatik, Lachin, ke founisè, fabricants, personnalisé, l', pricelist, pou vann, nan machandiz, echantiyon gratis, poreux materyèl

(0/10)

clearall